長いこと更新していませんでしたね。
しかし、ちゃんと進んでいたんですよ。
今回は原型終了してからの複製作業です。
今回は原型終了してからの複製作業です。
そして背面パーツ、顔パーツそれぞれを2分割する型を作成するため、
頭の中で計画しながら粘土に埋めていきます。
ちなみにほい~るくん同様、今回もオーバーフロー方式にします。シリコンの使用量もそれほど多くないし、なにより経験上失敗が少ないから。
磁石を付ける背面のパーツは単純な形状なのでそれほど悩まずにささっとできました。
とはいえ結構工程が多かったです。
まず、眼球は最終的に半球になったので眼球固定用の凹み部分はパテで埋めました。(黄色部分)
そしてオーバーフロー式に対応させるため、原型を1段高く配置します。
この理由は後ほど。
その後、シリコンをギリギリまで節約するために、流す回数を何回かに分け、
ある程度の段階で粘土の壁を作り、必要な部分にだけ流して最低限の量で済ませました。
ここまできたところで石膏を注入してバックアップを作り、最終的に四角い正方形となりました。
そして・・・
左の蓋にあたる部分の説明は省きましたが、こちらができあがった2面型です。
最初に粘土で1段高くしておいた理由は、こうして型に1段壁をつくるためだったのです。
注型時にはこの段差までレジンを溜め、上から蓋をしてこの段差分のレジンを外に溢れさせることで目的の形を抽出することになります。
これがいわゆるオーバーフロー式という方法なんですね。
ちなみにこれらの写真、左がシリコン型で右側が石膏バックアップです。
途中の粘土の壁からシリコンが漏れたりしたので少々思っていたのと違う形になってしまいましたが
こちらは適当でok。
気泡も全くありません。
なぜ気泡がないのかの理由は次回で。
もう平成も終わってしまいますね。
ここまできたところで石膏を注入してバックアップを作り、最終的に四角い正方形となりました。
そして・・・
左の蓋にあたる部分の説明は省きましたが、こちらができあがった2面型です。
最初に粘土で1段高くしておいた理由は、こうして型に1段壁をつくるためだったのです。
注型時にはこの段差までレジンを溜め、上から蓋をしてこの段差分のレジンを外に溢れさせることで目的の形を抽出することになります。
これがいわゆるオーバーフロー式という方法なんですね。
ちなみにこれらの写真、左がシリコン型で右側が石膏バックアップです。
途中の粘土の壁からシリコンが漏れたりしたので少々思っていたのと違う形になってしまいましたが
こちらは適当でok。
気泡も全くありません。
なぜ気泡がないのかの理由は次回で。
もう平成も終わってしまいますね。
EMBELLA
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